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第一六六八章 万美元一台

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第一六六八章 1500万美元一台

“董事长,算上这么多年的研发费用,一台浸没式光刻机的成本大概是4200万元,我们定价多少合适?”

会见后,魏建国和钱国培陪着孙健回到董事长办公室,两人有重要事情要请教,也知道董事长每次来都有重要事情要交待。

虽然孙健不管bSEc的日常事务,不在bSEc拿薪水(拿了也白拿),一个月左右才来一趟,但董事长办公室常年有人负责做卫生。

“魏总,既然我们率先研发成功65nm制程工艺,就不能好事了那些财大气粗的晶圆厂,我建议定价1500万美元一台。”

按照如今的汇率计算,1500万美元相当于万元人民币,一台相当于赚8200万元!

1500万美元一台听起来很贵,但孙健没有狮子大开口,前世在网上看过一则报道,一台ASmL早期生产的二手浸没式光刻机被国内一家晶圆厂买了回去,花费7500万元人民币,原价肯定超过3000万美元!

作为光刻机龙头GcA的老板,孙健对光刻机的定价机制一清二楚,GcA先研发出最先进的制程工艺,就能赚到高额垄断利润!等Nikon研发成功相同制程工艺的光刻机,GcA就开始大幅降价,不给对手赚取暴利的机会。

半导体技术的发展日新月异,新技术的不断涌现推动整个产业的不断革新,一步先步步先!没有哪家半导体公司敢停下来,由于光刻机在90nm制程工艺上被卡住了,Intel、Amd和国智cpU也无法升级换代。

由于bSEc和ASmL都投入巨资研发浸没式光刻机,特别是投入了数亿美元研发157nm方案的ASmL果断止损,集中全力同台积电合作,开发浸没式光刻机,Intel和Amd等美国半导体大厂预测二年内研发成功,Intel和Amd重新启动最新一代处理器的研发。

13.5nm波长光源的EUV激光器研发成功和 GcA EUV原型机亮相,虽然光刻机发展的瓶颈问题被完全解除,但GcA宣布,短时间内无法研发成功EUV光刻机,大家都将眼睛盯在134nm波长光源的浸没式光刻机上,预测占据全球光刻机技术实力第三位的ASmL会率先研发成功制程工艺65nm的浸没式光刻机。

2002年6月,pGcA半导体公司投资15亿美元建成了一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线,其中购买光刻机(20台90nm和40台180nm制程工艺的光刻机)花费6亿美元,占40%;基建成本花费4.5亿美元,占30%。

当初,GcA生产的90nm制程工艺的光刻机刚问世时,INtEL、Ibm、tI、Amd和hp先后从GcA定购了一条价值25亿美元(包括基建费用)的12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线。

采用bSEc生产的半导体设备建设一条12英寸晶圆、65nm制程工艺的半导体生产线,一般需要20台65nm制程工艺的浸没式光刻机和40台90nm制程工艺的光刻机,按照一台65nm需要1500万美元,一台90nm需要500万美元计算,合计需要5亿美元;按照光刻机占到半导体设备价值的40%计算,设备总价值12.5亿美元;按照基建成本占到总投资的30%计算,需要5.35亿元。

一条12英寸晶圆、65nm制程工艺的半导体生产线的总投资需要17.85亿美元,其中设备总投资12.5亿美元,这条半导体生产线所需的设备,bSEc如今都能自己生产或能在国内买到,不担心别人卡脖子。

重生者苦心积虑,前后布局了18年。

bSEc下辖光刻机半导体研究院、光刻机公司、硅片制造公司、光刻胶公司、刻蚀机公司、离子注入机公司、热处理公司、芯片封装公司和芯片检测公司。

术业有专攻!

bSEc当初还将单晶硅、光源材料、激光器、金属材料和光刻气体等243项技术攻关项目,交给了中科院、华清、燕大、哈工大、国科大、华中大学、沪海硅片制造厂、冰城光源材料厂、金城激光器制造厂和金城金属气体生产厂等56家国企和民企,购买对方的专利技术,成立合资公司,同厂家签订了长期供货合同。

2001年4月,htIc投资1700万美元入股了俄罗斯mikro旗下的金属材料和光刻气体公司(占股25%),保障了bSEc所需金属材料和光刻气体的长期供应和价格稳定。

曙光通讯集团入股蔡司曙光光学仪器股份公司(占45%),光学镜头也有备选方案。

到了孙健这个层次,买全球卖全球是最佳选择,但作为国内公司,不得不准备好备胎。

嘿嘿……

魏建国和钱国培都笑了,在生意场上,精明的孙董事长从来都不是善茬,如今全球光刻机的市场规模一年也就350台左右,五家平分,一家不到80台,只卖光刻机早就饿死了!

去年,虽然全球半导体行业复苏,但全球光刻机产业受制于90nm制程工艺的瓶颈,全球半导体设备销售额只有223亿美元,其中光刻机销售额只有60亿美元,不到30%,专家预测今年全球半导体设备的销售额有可能超过300亿美元。

一旦bSEc浸没式光刻机推向市场,全球半导体设备销售额将会出现爆发式增长。

“魏总、李副总,我们一边申请公司发明专利,一边组织员工加班加点生产,我代表pGcA半导体公司预定一套65nm制程工艺的半导体生产线,其中20台90nm制程工艺的光刻机交给GcA生产。”

pGcA半导体公司是由pENG(占60%)和GcA(占40%)投资成立的中美合资公司,pENG和GcA都是上市公司,法人兼董事长孙健也要兼顾GcA投资者的利益。

“好的,董事长!”

bSEc和GcA的身后老板都是孙董事长,两家既是竞争对手也是合作伙伴。

“魏总,一旦通过专家组鉴定后,我们要在第一时间电话告知汤普森先生,将134nm波长光源的激光器和浸没式光刻系统专利技术卖给GcA。”

1993年8月,GcA同bSEc签订了磁悬浮式双工作台系统专利和ArF准分子激光器专利互换协定,bSEc如今拥有的134nm波长光源的激光器是在ArF准分子激光器专利的基础上研发的,按照双方签订的专利技术转让协定,专利技术也属于GcA,但浸没式光刻系统专利技术属于bSEc。就像GcA研制成功多项磁悬浮式双工作台系统专利技术也属于bSEc一样。

(本章完)

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